Numéro
J. Phys. Phys. Appl.
Volume 23, Numéro S6, juin 1962
Page(s) 105 - 108
DOI https://doi.org/10.1051/jphysap:01962002306010500
J. Phys. Phys. Appl. 23, 105-108 (1962)
DOI: 10.1051/jphysap:01962002306010500

Appareillage pour les dépots de couches minces sur support chauffé

G. Blet

Laboratoire de Physique du Solide, C. F. T. H.


Abstract
In this paper is described an apparatus which allows one to obtain thin films on a heated substrate by a vacuum technique. The author shows the principle of the oven designed in an attempt to obtain a uniform temperature in a several cm3 volume without any variation with time.


Résumé
Cet article décrit un appareillage destiné à la réalisation sous vide de couches minces sur support chauffé. L'auteur s'est attaché plus particulièrement à la réalisation du four permettant d'obtenir une température uniforme à une fraction de degré près dans un volume de plusieurs centimètres cubes et ayant la même stabilisation dans le temps.

PACS
8115 - Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy.

Key words
instrumentation