Numéro
J. Phys. Phys. Appl.
Volume 20, Numéro S4, avril 1959
Page(s) 23 - 28
DOI https://doi.org/10.1051/jphysap:0195900200402300
J. Phys. Phys. Appl. 20, 23-28 (1959)
DOI: 10.1051/jphysap:0195900200402300

Émission secondaire par transmission

H. Dormont et P. Saget

Laboratoires d'Électronique et de Physique Appliquée


Abstract
The methods of obtaining thin multiple layers are described. These layers are produced by successive vacuum distillation of halides or oxides on thin metallic films. By studying the transmission secondary emission properties of these layers, the following results have been obtained : (1) Aluminium films, 400 Å thick, are the best metallic support ; (2) Alkali halide layers have large secondary emission coefficients (KCl, δ = 5) but are not stable ; (3) Oxide layers (MgO) are more stable. After operating for some time, they exhibit larger yields than the halide layers.


Résumé
On décrit les méthodes de fabrication de couches minces multiples obtenues par évaporations successives sous vide d'halogénures ou d'oxydes sur une pellicule métallique. L'étude des propriétés d'émission secondaire par transmission de ces couches a fourni les résultats suivants : 1° les pellicules d'aluminium, de 400 Å d'épaisseur, constituent les meilleurs supports métalliques ; 2° les couches aux halogénures alcalins ont des coefficients d'émission secondaire élevés (ClK, δ =5) mais sont instables ; 3° les couches aux oxydes (MgO) sont plus stables. Elles ont des coefficients d'émission secondaire plus élevés que les précédentes après quelque temps de fonctionnement.

PACS
4175F - Electron and positron beams.
7920H - Electron impact: secondary emission.

Key words
electron beams -- alkali metal compounds -- secondary electron emission -- films -- magnesium compounds