Numéro
J. Phys. Phys. Appl.
Volume 19, Numéro S7, juillet 1958
Page(s) 119 - 120
DOI https://doi.org/10.1051/jphysap:01958001907011901
J. Phys. Phys. Appl. 19, 119-120 (1958)
DOI: 10.1051/jphysap:01958001907011901

Méthode de préparation rapide de couches minces d'halogénures métalliques

Guy Perny

École Supérieure de Chimie, Mulhouse. Institut de Physique, Strasbourg

Without abstract


PACS
8115G - Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.).

Key words
Halides -- Thin film -- Vapor deposition -- Rapid process -- Experimental study

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