Numéro
J. Phys. Phys. Appl.
Volume 15, Numéro S1, janvier 1954
Page(s) 45 - 46
DOI https://doi.org/10.1051/jphysap:0195400150104500
J. Phys. Phys. Appl. 15, 45-46 (1954)
DOI: 10.1051/jphysap:0195400150104500

Préparation de couches minces sur support de tantale. Technique relative à l'obtention de dépots thermiques trés adhérents et à la fixation par brasure du tantale sur du cuivre

P. Garin, P. Léger et P. Prugne

Laboratoires du Commissariat à l'Énergie atomique, C.E.N. de Saclay, Service de Physique nucléaire


Résumé
L'article rend compte d'une méthode utilisée au Centre d'Études nucléaires pour couvrir des feuilles de tantale, par brasure, de pièces en certains métaux usuels (Fe, Cu) utilisées comme supports de cibles dans l'expérimentation au Van de Graaff. La méthode consiste à faire un dépôt très adhérent de fer ou de cuivre par évaporation thermique sur la feuille de tantale chauffée à haute température sous vide. C'est sur ce dépôt qu'il est procédé aux opérations de brasure.

PACS
6855 - Thin film structure and morphology.
8115G - Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.).

Key words
adhesion -- copper -- films -- iron -- particle accelerators -- tantalum

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