Numéro
J. Phys. Phys. Appl.
Volume 12, Numéro S8, octobre 1951
Page(s) 41 - 52
DOI https://doi.org/10.1051/jphysap:0195100120804100
J. Phys. Phys. Appl. 12, 41-52 (1951)
DOI: 10.1051/jphysap:0195100120804100

Microanalyse topologique à l'aide des rayons X

Mladen Paic

Institut de Physique de l'Université de Zagreb (Yougoslavie)


Résumé
La radiographie d'une plaque plan-parallèle peut donner des renseignements qualitatifs sur la distribution des composants qui constituent cet écran. En photométrant cette radiographie, ainsi que celle d'une série d'étalons appropriés, on peut étudier quantitativement l'hétérogénéité chimique de l'écran. On donne la théorie approchée du procédé, en particulier dans le cas d'un écran métallique binaire, dont le volume spécifique est additif. Les coefficients d'absorption linéaire des éléments solides, en fonction du numéro atomique, sont représentés graphiquement dans deux cas particuliers. Le choix de la longueur d'onde du rayonnement X est discuté. On étudie l'influence du rayonnement diffusé parasite, ainsi que la qualité des émulsions photographiques. Des exemples d'application sont donnés : alliages Al-Sb, Al-Zn-Cu, diffusion du cuivre dans l'aluminium. La quantité de matière correspondant à une mesure photométrique peut descendre à 0,03 mg et l'on peut facilement déceler une quantité de cuivre, par exemple, de l'ordre de 10-5g.

PACS
8280D - Analytical methods involving electronic spectroscopy.

Key words
alloys -- X ray chemical analysis -- radiography

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